氧化膜應力的測量是氧化膜應力研究的基礎。已經(jīng)發(fā)展了多種氧化膜應力原位測量技術(shù)。由于氧化膜較薄，氧化膜與基體金屬構(gòu)成一動態(tài)復合體系以及環(huán)境溫度高等特點，氧化膜應力的測試技術(shù)與常規(guī)薄膜的不同。從四十年代開始對氧化膜應力進行定量測量，由于技術(shù)的限制，測試范圍和精度一直達不到像薄膜殘余應力測量的程度。但是，近年來隨著新技術(shù)的應用和研究的深入，在氧化膜應力方面才取得了明顯進展。盡管如此，對氧化膜應力的研究工作還遠遠不夠，許多問題亟待進一步澄清。
 

　　總結(jié)了氧化膜應力產(chǎn)生和釋放機制，氧化膜應力原位測量技術(shù)以及稀土對氧化膜應力影響等方面的研究進展，以探求氧化膜應力研究的發(fā)展方向
 

　　材料表面的幾何形狀:
 

　　通常認為di一種因素是重要的。對各向同性的氧化膜，對實用純金屬， PBR通常大于1，氧化膜內(nèi)存在壓應力。而氧化物在基體金屬上取向生長造成晶格畸變。這部分應力只對特別薄的膜才明顯。對于不同的金屬體系或是在不同的氧化條件下，其它因素的作用也可能十分突出，甚至是主要的。例如，通常認為氧化鋁膜發(fā)生橫向生長，即新的氧化物主要在已形成膜內(nèi)的晶界處生成。此時，氧化膜橫向生長是應力產(chǎn)生的主要因素。另外，金屬試樣初始表面形狀對氧化膜內(nèi)應力的性質(zhì)及大小也有著十分明顯的影響。Hunt z認為，在許多情況下，氧化膜應力的性質(zhì)與氧化膜的生長機制有更直接的關(guān)系。
 

　　對于氧化膜生長應力產(chǎn)生的理論分析也進行了部分工作，提出了不同模型來解釋氧化膜內(nèi)存在的壓應力。例如，新的氧化物在晶界處生成模型，界面刃型位錯排列模型，界面突出物模型以及界面位錯攀移模型等。這些模型對理解應力產(chǎn)生機制是十分有益的。但在目前情況下，由于缺少必要的關(guān)于氧化膜性質(zhì)的參量，還達不到定量計算的程度。